您现在的位置是:首页  > 抛光液  > 碳化硅抛光液的开发和应用

碳化硅抛光液的开发和应用

作者:李博士日期:2021-06-04浏览:380
导读:我们团队开发了系列碳化硅晶圆(SiC Wafer)抛光液,主要包括:SC- A1901,SC-A1906,SC-AT2000,SC-A2002,SC-AT2012,SC-A1905,SC-S1903等。

碳化硅(SiC)单晶材料作为第三代宽带隙半导体材料的代表,由于其具有禁带宽度大(~Si的3倍)、高热导率(~Si的3.3倍或GaAs的10倍)、高电子饱和迁移速率(~Si的2.5倍)、高击穿电场(~Si的10倍或GaAs的5倍)等突出特性,在高温、高压、高频、大功率电子器件领域和航天、军工、核能等极端环境应用领域有着不可替代的优势,弥补了传统半导体材料器件在实际应用中的缺陷,正逐渐成为功率半导体的主流。

我们团队开发了系列碳化硅晶圆(SiC Wafer)抛光液,主要包括:SC- A1901,SC-A1906,SC-AT2000,SC-A2002,SC-AT2012,SC-A1905,SC-S1903等系列碳化硅抛光液。既有碳化硅粗抛液也有碳化硅精抛液:

碳化硅粗抛光液

优点

1. 抛光速率大于2.5μm/h;

2. 抛光表面平整光滑,无明显划伤;

3. 寿命长。

应用:不同尺寸高纯半绝缘体4H-SiC,N型4H-SiC等晶圆抛光。

碳化硅精抛液

优点

1. 抛光表面质量好,表面粗糙度Ra<0.15μm;

2. 去除效率高,抛光速率大于1μm/h;

3. 易清洗。

应用:不同尺寸高纯半绝缘体4H-SiC,N型4H-SiC等晶圆精抛。

碳化硅抛光液(SiC)

转载请注明出处:李博士,如有疑问,请联系(QQ:81067315)。
本文地址:https://www.imlhl.com/cmp/420.html